分子印跡聚合物的現(xiàn)狀與展望

分子印跡技術(shù)研究進(jìn)展及發(fā)展前景

【摘要】：當(dāng)今,分子印跡技術(shù)發(fā)展迅猛。本文綜述了該技術(shù)的研究現(xiàn)狀，以及分子印跡技術(shù)的發(fā)展前景。

技術(shù)的未來發(fā)展趨勢(shì)。

關(guān)鍵詞：聚合物，分子印跡，模板，分子識(shí)別

一、介紹

分子印跡技術(shù)在過去60年發(fā)展迅速，尤其是近5年來，人們對(duì)這一領(lǐng)域的興趣激增模板聚合的翻譯，據(jù)估計(jì)，全球與該領(lǐng)域相關(guān)的學(xué)術(shù)和產(chǎn)業(yè)研究團(tuán)體已超過100個(gè)。目前已發(fā)表有關(guān)分子印跡技術(shù)研究的文章和評(píng)論500余篇，并申請(qǐng)了相當(dāng)數(shù)量的專利。直到現(xiàn)在，每年相關(guān)文章的發(fā)表量都不是用幾個(gè)數(shù)來計(jì)算的。然而，隨著有機(jī)聚合物作為二氧化硅基質(zhì)替代品的引入和非共價(jià)方法的廣泛應(yīng)用，發(fā)表率一直在飆升（如表一）所示。1997年有近80篇文章）發(fā)表，并于當(dāng)年舉辦了第一屆分子印跡技術(shù)專題研討會(huì)，成立了分子印跡技術(shù)協(xié)會(huì)（SMI）。這種趨勢(shì)在 1998 年仍在繼續(xù)。

分子印跡技術(shù)在很多優(yōu)秀的文章中都有深入的討論模板聚合的翻譯，ACS也有專門的文獻(xiàn)。本文的目的不是重復(fù)這種技術(shù)，而是為讀者提供*新的研究。文章后半部分主要介紹了該技術(shù)的研究現(xiàn)狀、未來將面臨的挑戰(zhàn)和潛在的應(yīng)用領(lǐng)域。

圖 1 分子印跡出版物的年數(shù)（來源：Molecular Imprinting Science）。（1998年數(shù)據(jù)為估計(jì)

價(jià)值）。

2. 分子印跡：藝術(shù)王國(guó)

分子印跡技術(shù)是一種創(chuàng)建具有選擇性分子識(shí)別功能的大分子模型的通用方法。

這些印章